'입는 컴퓨터' 앞당기는 나노선 프린팅 기술 개발

포스텍 이태우 교수팀
세계 첫 초당 1ｍ로 인쇄

나노선(線) 프린팅으로 입는 컴퓨터, 휘어지는 디스플레이 등에 쓰이는 유연한 전자소자를 빠르고 간편하게 만들 수 있는 길이 열렸다.

미래창조과학부는 이태우 포스텍 신소재공학부 연구팀이 나노선을 빠른 속도로 넓은 면적에 인쇄하고 정렬해 전자회로 등을 만들 수 있는 기술(사진)을 개발했다고 7일 발표했다.

나노선은 나노미터 수준의 지름과 수마이크로미터(100만분의 1ｍ) 이상의 길이를 갖는 1차원 형태의 나노 재료다. 기존 재료에 비해 전기적 특성과 유연성이 뛰어나 차세대 전자소자를 만드는 데 필요한 소재로 각광받고 있다. 하지만 워낙 작은 단위에서 제조가 이뤄지다 보니 넓은 면적에서 나노선을 개별적으로 제어하기 어렵다는 점이 문제로 꼽혔다.

연구팀은 전기장을 이용하면 고분자 용액이 고무줄이 늘어나듯 가늘고 길게 떨어지면서 순간적으로 기판 위에 나노선이 만들어진다는 점에 착안, 초당 1ｍ 길이로 나노선을 인쇄할 수 있는 방법을 세계 최초로 개발했다. 트랜지스터, 전자회로, 메모리 등의 제조에 이용된다.

이 교수는 “초고속 나노선 프린팅 원천 기술을 확보한 것”이라며 “전자소자뿐 아니라 2020년 50조원 규모로 성장할 입는 컴퓨터, 섬유 전자소자, 휘어지는 디스플레이 등 유연 전자소자 시장에서 한국이 선도적 지위를 확보할 수 있을 것”이라고 말했다.

이 연구는 미래부가 추진하는 ‘나노기반 소프트일렉트로닉스연구단’의 지원으로 이뤄졌으며 재료과학 분야 세계적 학술지인 ‘네이처 커뮤니케이션’ 최신호(4월30일자)에 실렸다.

임근호 기자 eigen@hankyung.com