삼성전자, EUV 기반 '5나노' 파운드리 공정 개발

7나노 대비 면적 25%↓ 성능 10%↑
초미세 공정 제품 양산 본격화
이달 중 출하…'6나노' 올해 양산 계획

삼성전자 화성캠퍼스 EUV라인 전경.

삼성전자가 EUV(극자외선) 기술을 기반으로 '5나노 공정' 개발에 성공했다고 16일 밝혔다. 또 삼성전자는 이달 내로 7나노 제품을 출하하고 6나노 제품 설계를 완료하는 등 초미세 공정에서 기술 리더십을 강화하고 있다.

이번에 개발한 차세대 '5나노 공정'은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 이를 통해 20% 향상된 전력 효율, 10% 향상된 성능을 제공한다. 더욱이 7나노 공정에 적용된 설계 자산을 활용할 수 있어 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.

삼성전자는 7나노와 6나노 파운드리 공정에서도 양산을 본격화하고 있다. 올 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작한 삼성전자는 이달 중에 제품을 본격 출하할 계획이다. 6나노 공정 기반 제품의 경우 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있으며, 제품 설계가 완료돼 올 하반기 양산할 예정이다.

삼성전자가 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계가 강화되는 동시에 시스템 반도체 역량도 높아지는 효과가 있을 것으로 기대된다. 파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 하므로 전후방 연관 효과가 크다.

삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 'MPW(Multi Project Wafer) 서비스'를 최신 5나노 공정까지 확대 제공했다. 고객들이 보다 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원할 수 있다는 의미다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 높은 수요가 예상된다"며 "향후 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나가겠다"고 말했다.

삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있다. 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인을 2020년부터 본격 가동해 고객과 시장의 요구에 대응해 나갈 계획이다.

윤진우 한경닷컴 기자 jiinwoo@hankyung.com
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