이재용 "철저히 준비해 벽 넘자"…'EUV 적용 D램' 등 미래기술 챙겨

이달에만 세 번째 현장경영

수원 삼성종합기술원 찾아가
"한계 부딪힐 때 다시 힘내자"

세계 첫 'EUV D램' 양산 성공
AI반도체·양자컴퓨팅 기술 논의

이재용 삼성전자 부회장(사진)이 25일 삼성의 미래기술 개발을 주도하는 삼성종합기술원을 찾았다. 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 확진자가 나온 삼성전자 경북 구미사업장(3일)에 이어 삼성디스플레이 충남 아산사업장(19일)까지 이달 들어서만 세 번째 현장경영 행보다.

코로나19로 어려움을 겪고 있는 임직원을 격려하고, 대내외 불확실성이 커지고 있는 상황에서도 차세대 먹거리를 찾는 일은 변함없이 이어나가야 한다는 의지를 내보였다는 분석이다. 삼성전자는 이날 세계 최초로 초미세공정에 활용하는 극자외선(EUV) 노광 장비를 활용해 D램 양산에 성공했다.

위기 속 현장경영 강화

이 부회장은 경기 수원에 있는 삼성종합기술원을 찾아 신기술 개발 현황을 보고받고 차세대 미래 기술 전략을 점검했다. 삼성종합기술원은 1987년 미래 준비를 위한 기초 기술을 연구하고, 핵심 원천기술을 개발하기 위해 문을 열었다. 17개 연구실에서 1200여 명의 연구원이 차세대 기술을 연구하고 있다. 이 부회장의 현장경영에는 김기남 삼성전자 DS(디바이스솔루션) 부문 부회장, 황성우 삼성종합기술원장(사장), 강호규 삼성전자 반도체연구소장, 곽진오 삼성디스플레이 연구소장 등이 자리를 같이했다.

이들은 차세대 인공지능(AI) 반도체와 양자 컴퓨팅 기술, 반도체·디스플레이·전지 혁신 소재 등 선행 기술에 대해 논의했다. 사회적 문제인 미세먼지 해결을 위해 지난해 설립한 미세먼지 연구소의 추진 전략도 살펴봤다.

이 부회장은 참석자들에게 “어렵고 힘들 때일수록 미래를 철저히 준비해야 한다”며 “한계에 부딪혔다고 생각될 때 다시 한번 힘을 내 벽을 넘자”고 강조했다. 이 부회장은 코로나19가 본격 확산되기 시작한 지난달부터 현장경영을 강화하고 있다. 지난 1월27일 브라질 마나우스 공장을 방문한 데 이어 지난 달 20일 경기 화성사업장에 있는 EUV 라인을 찾았다. 이달 들어서도 구미와 아산에 이어 이날 삼성종합기술원을 방문했다.

세계 최초 EUV로 D램 양산

이 부회장은 고성능·저전력 반도체 개발에 필요한 EUV 기술 연구에 큰 관심을 갖고 챙겨왔다. AI와 5세대(5G) 이동통신, 자율주행 등 미래 새로운 먹거리 분야에 필수적으로 들어가는 기술이기 때문이다.

이날 삼성전자는 세계 최초로 EUV 노광 장비로 D램을 양산하는 데 성공했다. EUV 노광 장비는 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 그릴 때 활용된다. 현재 널리 쓰이는 불화아르곤(ArF) 장비를 쓸 때보다 제품 불량률을 낮추고 성능을 향상시킬 수 있다.

EUV 노광 장비는 빛으로 웨이퍼에 회로를 새길 때 쓰인다. 광원으로 극자외선을 쓰는 게 특징이다. 극자외선 파장은 13.5nm(나노미터, 1nm=10억분의 1m)로 불화아르곤 노광 장비(193nm)의 14분의 1 수준에 불과하다. 극자외선으로 좀 더 ‘미세한 회로’를 그릴 수 있는 것이다. 크레파스 대신 색연필로 그림을 그릴 때 더 세밀한 표현을 할 수 있는 것과 같은 이치다. 미세하게 그릴 수 있는 만큼 제품 크기를 줄일 수 있어 웨이퍼에서 나오는 반도체 수도 증가한다. 반도체가 작아져 전력 소모도 줄어든다.

삼성전자는 내년부터 차세대 D램인 4세대 10나노급 D램(DDR5, LPDDR5)에도 EUV 노광기술을 적용할 계획이다. 올해 하반기 EUV 전용 신규 생산라인인 평택 2공장을 가동해 증가하는 차세대 D램 수요에 안정적으로 대응할 수 있는 양산 체제를 구축할 방침이다.

이정배 삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 부사장은 “업계 최초로 EUV 공정을 D램 양산에 적용해 글로벌 고객사들에 더욱 차별화된 솔루션을 한발 앞서 제공할 수 있게 됐다”며 “내년에도 혁신적인 메모리 기술로 차세대 제품을 선행 개발해 글로벌 정보기술(IT) 시장이 지속적으로 성장하는 데 기여할 것”이라고 말했다.

정인설/황정수 기자 surisuri@hankyung.com