중국 매체들이 자국산 첫 반도체 28나노(㎚, 10억분의 1m) 노광 장비가 개발돼 연말께 생산이 가능할 것이라고 대대적으로 보도하고 있다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 3일 전했다. 사실이라면 미국 주도 대중국 반도체 수출 통제가 강화하는 가운데 중국의 반도체 굴기에 돌파구가 마련된 것이라는 분석이 나온다.
보도에 따르면 지난달 말 중국 증권일보는 국영 반도체 기업 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE·上海微電子裝備)가 연말까지 자체 개발한 28나노 노광 장비 SSA/800-10을 인도할 것으로 전망된다고 보도했다.
해당 보도는 이후 관영 통신 신화사를 포함해 다른 중국 매체들이 받아썼다. 미국의 대중국 반도체 수출 통제에 네덜란드와 일본이 가세해 중국 업체들이 첨단 반도체와 첨단 반도체 장비를 구할 수 없게 된 상황에서 중국 매체들이 SMEE의 성과를 홍보하고 나선 것이다.
SMEE는 그러나 해당 보도에 대해 입장을 내놓지 않았다.
사실 SMEE의 28나노급 심자외선(DUV) 노광장비 출시가 임박했다는 관측은 2020년부터 나왔다. '중국판 ASML'을 꿈꾸는 SMEE는 중국의 거의 유일한 반도체 노광장비 제작사다.
네덜란드의 ASML이 세계 노광장비 시장을 거의 독점한 가운데 SMEE는 중국이 밀어붙이는 반도체 기술 자립을 위한 핵심 회사다.
노광장비는 극자외선(EUV) 등 빛을 반도체 원재료인 웨이퍼에 비춰 미세한 회로를 새겨넣을 때 쓴다. 반도체 제품은 크게 노광장비를 이용한 회로 패턴 새겨넣기, 화학 약품을 이용해 필요한 회로를 남기고 나머지 부분을 녹여 벗겨내는 식각, 패키징을 비롯한 후공정을 거쳐 제작되는데 미세 공정 시대에 접어들면서 최첨단 노광장비의 중요성이 날로 커지고 있다.
미국 정부는 ASML의 노광장비에 자국산 부품이 다수 사용된다는 점을 근거로 ASML의 최첨단 미세 공정 노광장비의 중국 수출을 제한하고 있다.
세계적으로 상용화 경쟁이 본격화한 7㎚ 이하 미세공정 반도체 제품을 생산하려면 ASML이 독점 생산하는 EUV 노광장비가 반드시 필요하다.
중국으로서는 스마트폰 애플리케이션 프로세서(AP) 같은 첨단 반도체 부품을 스스로 개발하기 위해서는 우선 노광장비의 자급이 시급한 형편이다.
현재 SMEE가 판매하는 노광장비는 미세 공정과는 거리가 먼 90나노급이다.
반도체 업계에서는 일반적으로 14나노를 기준으로 그 이하를 미세 공정으로, 그 이상을 성숙 공정으로 구분한다.
네덜란드 정부는 2019년부터 ASML의 최첨단 EUV 노광장비의 중국 수출을 금지했고 지난 6월 30일(현지시간)에는 자국 반도체 장비 업체들이 일부 반도체 생산 설비를 선적할 때 정부의 '수출 허가'를 받도록 의무화하는 조치를 9월 1일부터 시행한다고 발표했다.
네덜란드 정부는 신규 규제의 대상 장비와 업체를 구체적으로 발표하진 않았지만, ASML이 생산하는 심자외선(DUV) 노광장비가 포함됐을 것이라고 외신들은 보도했다.
로이터 통신은 ASML의 DUV 노광장비 가운데 신형은 물론, 구형 제품들도 중국 수출길이 막힐 것으로 보인다고 소식통을 인용해 전했다.
미국 정부가 예전보다 작은 비율의 미국산 부품이 들어간 다른 기업의 제품에까지 수출 승인을 받도록 할 방침이라 ASML도 영향을 받을 것이라는 관측이다.
일본도 지난달 23일부터 첨단 반도체 노광·세정 장비 등 23개 품목 수출 시 포괄 허가 지역인 미국, 한국, 대만 등 42곳을 제외한 나라에 대해서는 개별 허가 절차를 개시했다.
일본은 2015년 이후 중국의 최대 반도체 제조 장비 공급처로, 중국 전체 수입의 3분의 1을 차지한다.
중국 선두기술 연구소의 장샤오룽은 중국이 반도체 성숙공정에서만 일정 수준의 자립을 달성했기 때문에 미국, 네덜란드, 일본의 수출 통제는 중국 업체들에 큰 영향을 미칠 것이라고 SCMP에 말했다.
그는 중국 노광장비 프로젝트와 세계 최고 업체들 간 격차는 10년 이상이라고 지적했다. 또한 SMEE의 90나노 노광 장비 생산 과정도 외국산 핵심 소재에 크게 의존하고 있다고 덧붙였다.