국가 핵심기술 해외유출 '징역 18년'

대법, 양형기준 대폭 강화

반도체 등 국가 핵심기술을 해외로 빼돌리면 최장 징역 18년까지 선고할 수 있도록 양형기준이 대폭 강화된다. 그간 산업기술 유출 범죄는 양형기준이 지나치게 낮아 범죄 억제력이 부족하다는 지적이 제기된 데 따른 것이다.

19일 대법원 양형위원회는 “영업비밀 침해행위로 분류돼 있던 기술 침해 범죄를 독립된 유형으로 분리하면서 ‘국가 핵심기술’ 등을 양형기준에 포함했다”며 “기술 침해 범죄에 대해 엄정한 양형을 바라는 국민적 공감대를 반영해 상향된 형량 범위를 제시했다”고 밝혔다.

그동안 기술 유출 범죄는 ‘영업비밀 침해행위’로 분류되면서 5개월 이상의 징역, 최대 9년형이 적용돼 솜방망이 처벌이라는 지적을 받았다. 이에 양형위는 국가 핵심기술 등이 국외로 침해(유출)된 경우 최대 18년형을 선고할 수 있도록 권고했다. 새로 양형기준에 포함된 산업기술의 국내 침해는 최대 권고 형량을 기존 6년에서 9년으로, 국외 침해는 기존 9년에서 15년으로 상향했다. 특히 초범이라는 점을 주요 참작 사유에서 제외하는 등 판사가 징역형의 집행을 쉽게 유예하지 못하도록 권고했다.

대법원은 다음달 16일 공청회를 열어 의견을 수렴한 뒤 3월 25일 양형위 전체회의에서 양형기준을 최종 의결할 예정이다.

허란 기자 why@hankyung.com