㈜싸이노스, 차세대 세정/코팅 센터 구축을 위한 부지 확보
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반도체 기업과 관련 기관들은 화성, 평택, 이천, 수원 등 경기 남부지역 일대에 조성되는 ‘K-반도체 메가 클러스터’에 맞춰 적극적인 투자 계획을 발표했다.반도체 제조 공정은 점차 미세화, 고단화되고 있고 생산과정에서 발생되는 오염원은 반도체 수율에 큰 영향을 주고 있다. 이에 미세 파티클(Particle), 이온을 컨트롤하는 초정밀세정과 오염원 방지 및 부품(Parts)보호를 위한 초고밀도 코팅은 복잡하고 미세한 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 기술로 자리 매김했다.
싸이노스는 반도체 첨단 공정의 기술 변화와 복잡하고 다양해진 고객의 요구에 적극적으로 대응하고 이에 맞는 솔루션을 제공하고자 신규 부지를 계약 및 확보하였다.
유연한 대응을 위하여 확보한 부지는 발안산업단지에 위치한 기존 제3공장 인근 연면적 약 2,900평(대지 1,200평) 4층 규모로 업무 효율성이 더욱 증대될 것이라는 전망이다. 특히 신규 공장 확보와 동시에 미래 코팅 기술인 ALD 기술, 기존 APS(Atmospheric Plasma Spray)와 SPS(Suspension Plasma Spray)의 단점을 보완한 eXtreme Coating 기술 그리고 다수의 구멍(Hole)을 가진 부품의 손상(Hole damage)을 현저하게 감소시키는 H-PBC 기술등이 양산을 위한 구축이 예정되어 있다.싸이노스 관계자는 “적극적인 투자 계획과 함께 반도체 산업에서의 입지를 공고히 다져 일자리 창출에 앞장서는 기업이 될 것”이라며 포부를 밝혔다.
싸이노스 조승준 대표는 “이번 투자는 고객사 대응을 강화하기 위한 것으로, 적극적인 투자와 사업의 확장은 ‘미래성장을 위한 동력 확보’”라며 “효율적 첨단 생산 시설 확보 등 투자 대비 높은 사업적 가치를 지닌 만큼 기업가치도 함께 제고될 수 있도록 시장과 소통하며, 글로벌 No.1 기업으로 발돋움할 것이다”고 말했다.
박준식기자 parkjs@wowtv.co.kr